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上海气相沉积炉的特征

来源:http://shanghai.sinokiln.com/news776652.html  发布日期:2022/3/10 15:39:00

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上海气相沉积炉的特征


气相沉积炉是利用中频感应加热的高温烧结设备,气相沉积炉CVD是Chemical Vapor Deposition的简称,是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术较初是作为涂层的手段而开发的,但目前,不只应用于耐热物质的涂层,而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等,是一个颇具特征的技术领域。气相沉积炉技术特征在于:(1)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(2)高熔点物质能够在低温下合成;(3)不仅可以在基片上进行涂层,而且可以在粉体表面涂层,等。特别是在低温下可以合成高熔点物质,在节能方面做出了贡献,作为一种新技术是大有前途的。

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